SGL Carbon: Spatenstich für neues Graphit-Produktionszentrum 1

BONN (ba). Der Spatenstich für ein neues Produktionszentrum für die Herstellung von isostatischem Graphit am Standort Bonn der SGL Group ist erfolgt. Der Baubeginn ist für September vorgesehen; die Produktionsanlage soll Ende 2012 fertiggestellt sein.

Dr. Gerd Wingefeld, Mitglied des Vorstands der SGL Group: „Die Investition in das neue Produktionszentrum ist auch ein Bekenntnis zum Standort Bonn, den wir damit weiter zu einem Hochtechnologie-Standort entwickeln. Im Rahmen unseres mehrjährigen Investitionsprogramms werden wir weltweit unsere Produktionskapazitäten verdreifachen und damit unsere weltweit führende Position in diesem Wachstumsmarkt stärken.“

Das neue Produktionszentrum umfasst eine Grundfläche von 3500 m². Die Fertigung umfasst Mahl- und Mischanlagen sowie als Herzstück eine Großpresse mit einem Gewicht von 800 t. In die Planung dieser Großinvestition ist neben dem neuesten Stand der Technik auch die in Jahrzehnten entwickelte Prozesstechnologie des Standortes Bonn eingeflossen. 

Die neue hochmoderne Grünfertigung wird die SGL Group in die Lage versetzen, den wachsenden Kundennachfragen nach großen Formteilen aus isostatischem Graphit gerecht zu werden. Damit wird gleichzeitig die Kapazität für isostatischen Graphit in den kommenden Jahren von 5000 auf 15000 t p.a. weltweit erhöht.

Die Einzelinvestition in den Standort Bonn ist Teil eines umfangreichen Investitionsprogramms in die globale Wertschöpfungskette für isostatischen Graphit, in dessen Rahmen die SGL Group bis 2012 rund 75 Mio. Euro in den Ausbau der Kapazitäten als auch in die technologische Weiterentwicklung investiert. Die Investition beinhaltet neben der Erweiterung der Fertigung in Bonn auch Investitionen in die chinesischen Standorte Yangquan (Brennen und Graphitieren) und Shanghai (Bearbeitung, Reinigung und Beschichtung). Dies entspricht der Strategie der SGL Group, lokale Wachstumsmärkte wie denen Asiens – hauptsächlich China, Taiwan, Südkorea und Japan – aus eigener lokaler Produktion zu beliefern. Damit baut die SGL Group ihre globale starke technologische Position in diesen schnell wachsenden Märkten weiter aus.

Isostatischer Graphit ist z. B. für die Herstellung von hochreinem Polysilizium und Silizium-Einkristallen für die Halbleiter- und Photovoltaikbranche unersetzlich. Weiterhin werden Graphitbauteile bei der Produktion von Leuchtdioden (LEDs) verwendet.