So soll die neue Samsung-EUV-Fertigung im koreanischen Hwaseong nach Fertigstellung aussehen. - (Bild: Samsung)
Samsung wird mit dieser neuen EUV-Linie laut Unternehmensmitteilung in der Lage sein, seine Spitzenposition im Bereich der Single-Nanometer-Prozesstechnologien weiter zu stärken, indem auf die Marktnachfrage aus verschiedenen Anwendungsgebieten reagiert wird – unter anderem sind es der Mobil-, Server-, Netzwerk- und HPC-Bereich (High-Performance Computing), in denen hohe Performance und Energieeffizienz entscheidend sind.
Die Bautätigkeit an dem neuen Werk dürfte im zweiten Halbjahr 2019 abgeschlossen sein, bevor dann 2020 die Produktion hochgefahren wird. Die Anfangs-Investitionen in die neue EUV-Linie dürften sich bis 2020 auf bis zu 6 Mrd. US-Dollar belaufen. Abhängig von den herrschenden Marktbedingungen können dann noch weitere Investitionen hinzukommen.
„Mit der neuen EUV-Linie wird Hwaseong zum Mittelpunkt des Halbleiter-Clusters des Unternehmens werden, das die koreanischen Orte Giheung, Hwaseong und Pyeongtaek umfasst“, sagt Kinam Kim, President & CEO of Device Solutions bei Samsung Electronics. „Die Linie wird eine zentrale Rolle in den Bestrebungen von Samsung spielen, seinen Wettbewerbsvorteil als Branchenführer in der bevorstehenden, vierten industriellen Revolution zu behaupten.“
Samsung hat sich für die Nutzung von EUV-Technologie der Spitzenklasse entschieden, beginnend mit seinem 7nm (Nanometer) LPP-Prozess (Low Power Plus). Die neue Linie wird mit EUV-Lithographie-Equipment ausgestattet, um technologische Restriktionen auf der Nano-Ebene zu überwinden. Samsung hat fortlaufend in die Forschung und Entwicklung auf dem EUV-Sektor investiert, um seine Kunden auf der ganzen Welt bei der Entwicklung der nächsten Chipgeneration auf der Basis dieser Spitzentechnologien zu unterstützen.
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